【摘 要】
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一种新型的液态MO源金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术,它采用液态MO源脉冲输送技术。该方法采用了可编程控制器(PLC)和触摸屏,可通过触摸屏完成系统控制、工艺参数设置及数
【机 构】
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西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测实验室,
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一种新型的液态MO源金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术,它采用液态MO源脉冲输送技术。该方法采用了可编程控制器(PLC)和触摸屏,可通过触摸屏完成系统控制、工艺参数设置及数据显示,提高了MOCVD系统的自动化程度,确保工艺的重复性和稳定性。通过该方法,成功地制备了TiO2薄膜。
A new type of liquid MO source metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) technology, which uses liquid MO source pulse delivery technology. The method uses a programmable logic controller (PLC) and a touch screen. The touch screen can be used to control the system, set the process parameters and display the data. This improves the automation of the MOCVD system and ensures the repeatability and stability of the process. By this method, a TiO2 thin film has been successfully prepared.
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