硅外延生长设备的最新进展

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在 MOS 电路(特别是 CMOS 电路)迫切地要求采用外延材料的促进下,硅外延生长设备得到了飞速的发展。本文综述了几种工业上大量采用的常规外延反应器和最近新发展的几种新型外延反应器的性能。 In the MOS circuit (especially CMOS circuit) urgently require the use of epitaxial materials, silicon epitaxial growth equipment has been rapid development. This article reviews the performance of several types of conventional epitaxial reactors that have been extensively used in industry and several recently developed epitaxial reactors.
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