HiPIMS技术低温沉积CrN薄膜结构及性能研究

来源 :表面技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：chenyuxun2005

【摘要】

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目的实现性能优异的CrN薄膜在低温沉积条件下的可控制备。方法利用高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS),通过调控脉冲放电波形(可调控脉冲放电模式-MPP、双极脉冲放电模式-BPH)制

【作者】

：

贵宾华周晖郑军杨拉毛草张延帅汪科良

【机构】

：

兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室,安徽工业大学先进金属材料绿色制备与表面技术教育部重点实验室

【出处】

：

表面技术

【发表日期】

：

2020年12期

【关键词】

：

HIPIMS 磁控溅射可调控脉冲放电模式双极脉冲放电模式基体偏压沉积温度组织结构 HiPIMSmagnetron sputteringmodulate

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目的实现性能优异的CrN薄膜在低温沉积条件下的可控制备。方法利用高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS),通过调控脉冲放电波形(可调控脉冲放电模式-MPP、双极脉冲放电模式-BPH)制备了系列低温沉积工艺下的CrN薄膜。选用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)、纳米硬度测试仪及球盘摩擦试验仪表征了Cr N薄膜的组织结构、微观形貌、摩擦学性能。结果相对于传统的直流磁控溅射技术(DCMS),Hi PIMS具备高溅射材料离化率,偏压作用下产生的荷能离子对成膜表面的持续

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