【摘 要】
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场发射显示（FED）被认为是CRT的平板化,受到人们关注。作者采用直流磁控溅射法,在Al2O3过渡层上制备面心立方结构的Ag多晶薄膜。通过XRD、SEM、AFM测试分析发现,溅射功率分为两
【基金项目】
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基金项目：国家“863”计划平板显示重大专项（2008AA03A313）,福建省重大科技专项（2004HZ01-2）,福州大学博士基金（826369）资助项目
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场发射显示（FED）被认为是CRT的平板化,受到人们关注。作者采用直流磁控溅射法,在Al2O3过渡层上制备面心立方结构的Ag多晶薄膜。通过XRD、SEM、AFM测试分析发现,溅射功率分为两个区域,在溅射功率不高于2.8kW时,沉积速率随着功率线性增大,得到Ag膜晶粒尺寸均一,薄膜电阻率逐步降低;溅射功率高于2.8kW后,沉积速率没有显著增大,出现较多的大晶粒,电阻率升高,并且从理论上给出了解释。综合来看,溅射功率在2.8kW所制备的Ag膜微观结构质量达到最佳,电阻率也达到最小值。
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