四氨基镍酞菁在金电极上成膜过程的研究

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【摘要】

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采用循环伏安法(CV)和石英晶体微天平技术(QCM)对四氨基镍酞菁(NiTAPc)在金电极上的聚合成膜过程进行了研究,讨论了扫描速率、溶剂、支持电解质及单体浓度对其成膜过程的影响

【作者】

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任春生夏静芬邓杏娣应敏

【机构】

：

东华理工学院应用化学系,浙江万里学院,东华理工学院应用化学系

【出处】

：

工业催化

【发表日期】

：

2004年3期

【关键词】

：

石英晶体微天平(EQCM) 循环伏安法四氨基镍酞菁成膜过程离子传输电催化 electrochemical quartz crystal microbal

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采用循环伏安法(CV)和石英晶体微天平技术(QCM)对四氨基镍酞菁(NiTAPc)在金电极上的聚合成膜过程进行了研究,讨论了扫描速率、溶剂、支持电解质及单体浓度对其成膜过程的影响,考察了该聚合膜在无单体电解质溶液中的氧化还原行为及稳定性.借助电化学石英晶体微天平(QCM)重点讨论了过程溶液中离子在膜中传输的机理.

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