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综述了脉冲激光沉积（PLD）法基于缓冲层制备ZnO薄膜及ZnO纳米棒的研究进展,分析了缓冲层对于生长高质量ZnO薄膜及纳米棒的作用,得到结论：引入缓冲层可以减少沉积物与衬底晶格失配以及热膨胀系数不匹配的问题。
PLD法制备基于缓冲层的ZnO薄膜及纳米棒研究进展
【摘 要】
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综述了脉冲激光沉积（PLD）法基于缓冲层制备ZnO薄膜及ZnO纳米棒的研究进展,分析了缓冲层对于生长高质量ZnO薄膜及纳米棒的作用,得到结论：引入缓冲层可以减少沉积物与衬底晶格失配
【机 构】
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合肥工业大学电子科学与应用物理学院
【出 处】
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电子元件与材料
【发表日期】
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2010年10期
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