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以金属锌(Zn)和铝(Al)为靶材采用射频(RF)反应共溅射技术在低温(200℃)玻璃衬底上沉积了铝掺杂氧化锌(ZnO：A1)薄膜．运用扫描电子显微镜(SEM)、能量色散X射线谱(EDX)、表面轮廓仪(α-Step)、X射线衍射(XRD)和双光束紫外一可见光谱仪(UV-VIS)等分别对沉积样品的表面和断面的形貌结构、组成成分和光学特性进行了分析表征，研究了反应气体氧与氩流量比(O2／Ar)和RF溅射功率对沉积样品的生长速率、结构特征和光电学性质的影响。结果表明，薄膜的成长速率强烈依赖于RF溅射功率，而薄膜