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砷化镓抛光晶片表面沾污的二次离子质谱分析
砷化镓抛光晶片表面沾污的二次离子质谱分析
来源 :现代仪器 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wyf1233
【摘 要】
:
在砷化镓工艺过程中,很多失效问题与表面的沾污有关,二次离子质谱分析是表面分析的有力手段,本文提供一种用二次离子质谱分析检测砷化镓表面钠、钾和铝的沾污水平的测试方法。
【作 者】
:
马农农
何友琴
李雨辰
任殿胜
【机 构】
:
电子材料研究所
【出 处】
:
现代仪器
【发表日期】
:
2007年5期
【关键词】
:
二次离子质谱
砷化镓抛光晶片
金属表面沾污
SIMS GaAs wafer Surface contaminant
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在砷化镓工艺过程中,很多失效问题与表面的沾污有关,二次离子质谱分析是表面分析的有力手段,本文提供一种用二次离子质谱分析检测砷化镓表面钠、钾和铝的沾污水平的测试方法。
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