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目的采用电喷雾离子阱质谱（ESI-IT-MS）技术，对羟基喜树碱的裂解途径和裂解碎片进行研究。方法采用ESI-IT-MS一级质谱获得了[M-H]-m／z363，二级质谱获得了m／z319碎片离子，三级质谱主要获得了m／z304、291、275、262、246和234等碎片离子。结果羟基喜树碱主要裂解途径是在吡喃环上的酯键，其中二级碎片离子m／z319是分子离子峰失去一分子CO2形成，且离子强度较大，三级碎片离子主要是失去烷基片段的而形成的裂解。结论在负离子裂解条件下，可以选择m／z363→319为定量离子