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应用循环伏安和阻抗一电位法研究了硫脲(TU)对玻碳电极和镀镍玻碳电极上镍沉积过程的影响．结果表明，在玻碳电极上镍的电沉积呈现明显的电化学成核机理，而在镀镍玻碳电极上则无此特征．TU的存在虽阻碍了Ni晶核的形成，但却能加速晶粒的生长．
硫脲对镍电沉积的作用
【摘 要】
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应用循环伏安和阻抗一电位法研究了硫脲(TU)对玻碳电极和镀镍玻碳电极上镍沉积过程的影响．结果表明，在玻碳电极上镍的电沉积呈现明显的电化学成核机理，而在镀镍玻碳电极上则无此
【机 构】
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厦门大学化学化工学院
【出 处】
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电化学
【发表日期】
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2004年1期
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