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<正> 在高技术或超大规模集成电路的开发中,对电子级气体中痕量水含量的要求不断提高。从表1说明了这种趋势。
露点法测定电子级气体中痕量水
【摘 要】
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<正> 在高技术或超大规模集成电路的开发中,对电子级气体中痕量水含量的要求不断提高。从表1说明了这种趋势。
【机 构】
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中国科学院半导体研究所
【出 处】
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低温与特气
【发表日期】
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1990年1期
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