静电场处理对垂枝樱花插穗生根及相关生理生化特性的影响

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以垂枝樱花为材料,设置1.5、3.0、4.5、6.0kV/cm共4种场强的静电场处理,分析静电场对垂枝樱花插穗生根性状及相关生理、生化特性的影响,探讨静电场促进垂枝樱花插穗生根的机制。结果显示:(1)1.5-4。5kV/cm场强的静电处理能显著提高插穗的可溶性蛋白、可溶性糖含量,且4.5kV/cm处理的增幅最大,峰值时比对照分别增加43%和44.1%;(2)1.5-4.5kV/cm场强的静电场处理能显著提高插穗的过氧化物酶(POD)活性,降低吲哚乙酸氧化酶(IAA0)活性,且4.5kV/cm处理的效果最明
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