吸附伏安法测定合金铸铁中痕量钒

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钒在不同底液中的极谱特性由Ligán等作了较详细的研究;钒(V)的极谱催化波曾由高小霞、李南强等作了深入的研究莫茂生用单扫示波极谱,研究了钒(V)—Hcup在HAc—NáAe底液中的示波导数极谱行为,所得线性范围为2x10~(-5)~8×10~(-8)M;我们用79—1型伏安分析仪研究钒(V)—Hcup配合物在悬汞电极上吸附富集后的伏安特性,发现在0.4M NH~4Cl pH The polarographic properties of vanadium in different aqueous solutions have been studied in more detail by Ligán et al. The polarographic catalytic wave of vanadium (V) has been studied by Gao Xiaoxia and Li Nanqiang et al. The oscillopolarographic polarographic behavior of vanadium (V) -Hcup in HAc-NáAe bottom solution was studied. The linear range of the solution was found to be 2x10 ~ (-5) ~8 × 10 ~ (-8) M. The voltammetric behavior of the vanadium (V) -Hcup complex adsorbed and enriched on the hanging mercury electrode was investigated by voltammetric analyzer. It was found that in the presence of 0.4M NH 4 Cl pH
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