【摘 要】
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采用超低压等离子喷涂技术(Plasma spray-Physical Vapor Deposition,PS-PVD)制备了YSZ涂层,对涂层的显微组织结构进行了分析,并对比了粘结层表面不同预处理对于YSZ涂层生长
【机 构】
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航天材料及工艺研究所,北京100076
【出 处】
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2014年全国热喷涂技术经验交流会暨《热喷涂技术》期刊年会
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采用超低压等离子喷涂技术(Plasma spray-Physical Vapor Deposition,PS-PVD)制备了YSZ涂层,对涂层的显微组织结构进行了分析,并对比了粘结层表面不同预处理对于YSZ涂层生长趋势的影响规律.研究结果表明:McrAlY涂层致密,孔隙率为1.5％,结合强度达83.2MPa;YSZ涂层呈现明显的柱状晶结构.粘结层表面粗糙度对柱状晶生长方向影响较大,表面粗糙度越小,柱状晶生长方向越趋于一致,基本沿法向生长.在超低压状态下,涂层不存在“遮蔽效应”,可实现异型面涂层制备.
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