氧化铝模板法电沉积制备钻纳米线

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采用氧化铝模板法电沉积制备钴纳米线,并研究了沉积电位对钴纳米线的表面形貌和磁性能的影响。研究发现:电沉积钴纳米线的过程中,沉积电位与生长速率相互影响和制约。沉积电位太低,团聚作用明显,得不到钴纳米线;沉积电位增大,晶体表面能降低,有利于钴纳米线的生长,提高磁性能。然而,当沉积电位大于1.4V时,钴纳米线疏松短小,导致矫顽力下降。
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