【摘 要】
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介绍了目前用于提高亚半微米投影光刻机成像分辨力、增大焦深的新技术及主要研究方向．对大数值孔径和短波长技术、倾斜（离轴）照明技术、相移掩模技术、光瞳滤波技术、多焦面曝光
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介绍了目前用于提高亚半微米投影光刻机成像分辨力、增大焦深的新技术及主要研究方向．对大数值孔径和短波长技术、倾斜（离轴）照明技术、相移掩模技术、光瞳滤波技术、多焦面曝光技术以及表面成像技术的原理和现状作了较为详细的阐述，通过与现有技术及条件比较，提出了研制亚半微米光刻机应采用的技术途径．
The new techniques and main research directions for improving the imaging resolution and increasing the depth of focus of the sub-semi-micron projection lithography machine are introduced. The principles and current situation of large numerical aperture and short wavelength technology, tilt (off-axis) lighting technology, phase shift mask technology, pupil filter technology, multi-focal plane exposure technology and surface imaging technology are described in detail. Compared with the existing technologies and conditions, a technical approach to develop sub-semi-micron lithography machines is proposed.
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