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期刊论文
陶瓷衬底的化学机械抛光技术研究
陶瓷衬底的化学机械抛光技术研究
来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户:huier0127
【摘 要】
:
介绍了薄膜集成电路陶瓷衬底的化学机械抛光技术,概述了化学机械抛光原理和设备,讨论分析了影响陶瓷衬底的化学机械抛光的因素,并用实验加以验证。
【作 者】
:
吕文利
魏唯
朱宗树
蒋超
【机 构】
:
中国电子科技集团公司第四十八研究所
【出 处】
:
电子工业专用设备
【发表日期】
:
2010年03期
【关键词】
:
陶瓷
衬底
CMP
薄膜集成电路
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介绍了薄膜集成电路陶瓷衬底的化学机械抛光技术,概述了化学机械抛光原理和设备,讨论分析了影响陶瓷衬底的化学机械抛光的因素,并用实验加以验证。
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