【摘 要】
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提出了一种激光与微电子机械加工系统 (MEMS)相结合刻蚀硅磁敏三极管发射区引线槽的方法。实验结果表明 ,利用这种新方法刻蚀的硅磁敏三极管发射区引线槽具有刻蚀速率大、质
【机 构】
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黑龙江大学电子工程学院 黑龙江哈尔滨150080
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提出了一种激光与微电子机械加工系统 (MEMS)相结合刻蚀硅磁敏三极管发射区引线槽的方法。实验结果表明 ,利用这种新方法刻蚀的硅磁敏三极管发射区引线槽具有刻蚀速率大、质量好的优点 ,并且可以实现对 ,〈111〉晶向硅片无掩膜加工。
A method of etching the lead slot of silicon magnetron triode emitter region by combining laser and microelectromechanical processing system (MEMS) is proposed. The experimental results show that the lead groove of silicon magnetron triode emitter using this new method has the advantages of large etching rate and good quality, and can realize the maskless processing of the <111> crystal silicon wafer.
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