Remote plasma-enhanced atomic layer deposition of gallium oxide thin films with NH3 plasma pretreatm

来源 :半导体学报:英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：mnbin000

【摘要】

：

High quality gallium oxide(Ga2O3) thin films are deposited by remote plasma-enhanced atomic layer deposition(RPEALD) with trimethylgallium(TMG) and oxygen plasm

【作者】

：

Hui Hao Xiao Chen Zhengcheng L

【机构】

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CollegeofMaterialsScienceandEngineering,VacuumInterconnectedNanotechWorkstation（Nano-X）

【出处】

：

半导体学报:英文版

【发表日期】

：

2019年1期

【关键词】

：

Ga-oxide RPEALD PASSIVATION NH3 PLASMA

【基金项目】

：

The National Natural Science Foundation of China (Nos.61674165,61604167, 61574160,61704183,61404159,11604366),the Natural Science Foundation of Jiangsu Province (Nos.BK20170432, BK20160397,BK20140394)

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High quality gallium oxide(Ga2O3) thin films are deposited by remote plasma-enhanced atomic layer deposition(RPEALD) with trimethylgallium(TMG) and oxygen plasma as precursors. By introducing in-situ NH3 plasma pretreatment on the substrates, the depositi

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