【摘 要】
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用两束或多束相干激光束以不同的组合形式对光致抗蚀剂曝光,可在大面积范围内产生精细的二维周期性图形,这个方法特别适合于产生光电子器件和微电子器件的周期性结构.介绍激
【机 构】
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中国科学院光电技术研究微细加工光学技术国家重点实验室,中国科学院光电技术研究微细加工光学技术国家重点实验室,四川大学物理系
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用两束或多束相干激光束以不同的组合形式对光致抗蚀剂曝光,可在大面积范围内产生精细的二维周期性图形,这个方法特别适合于产生光电子器件和微电子器件的周期性结构.介绍激光干涉光刻的基本原理,对几种光束组合干涉方法给出了理论推导结果,并进行了计算机模拟.初步的实验结果表明,用激光干涉光刻技术产生大面积的亚微米级周期性孔、柱、锥图形是可行的.该方法不需要掩模、昂贵的光刻成像透镜、新的短波长光源和新型的抗蚀剂,提供了得到高分辨、无限焦深、大面积光刻的可能性.
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