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研究了室温下采用直流磁控共溅射法在抛光玻璃和Si基底上沉积Ni3Al合金薄膜的制备工艺、微观结构和电阻特性。采用SEM、EDX、AFM、TEM等测试分析了不同基底、溅射功率、工作气压等因素对薄膜微观结构、成分比和电阻特性的影响。结果表明：采用大功率混合溅射可以得到多晶态Ni3Al纳米舍金薄膜，且呈多层岛状生长。所得薄膜具有良好的导电性，与玻璃相比，在Si基底上的薄膜表面光滑平整，晶粒更小，电阻率略大。然而随着厚度的减小，薄膜的电阻率增加迅速，发生金属向绝缘体过渡的相变，而厚度较大时这种现象不明显，这表明N