1998年立体光刻市场将达6.86亿美元

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据加州市场情报研究公司报导,1998年光刻市场将达6.86亿美元。光刻是一种能用激光曝光光敏聚合物,建造三维模型的过程。光刻系统中采用的激光源可以是HeCd激光器,也可以是氩离子激光器。激光束通过动态反射镜组,确保其具有合适的扫描半径和直径。在计算机控制下,这一过程重复多次,直到模型制成。三维系统公司从1986年发明并首先采用该工艺。1988年又推出首批产品。此后公司向世界16个国家销售了300余台这种装置。 According to California Market Intelligence Research Inc., the lithography market in 1998 will reach 686 million U.S. dollars. Lithography is a process that can use a laser to expose a photopolymer and build a three-dimensional model. The laser source used in the lithography system may be a HeCd laser or an argon ion laser. The laser beam passes through the dynamic mirror group to ensure it has a suitable scanning radius and diameter. Under computer control, this process is repeated many times until the model is made. Three-dimensional system company invented in 1986 and first adopted the process. In 1988 it launched the first batch of products. Since then, the company has sold more than 300 such devices to 16 countries in the world.
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