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介绍Ｘ光激光薄膜锗靶的制备工艺，在厚度为９０ｎｍ和ｆｏｒｍｖａｒ膜上，采用磁控溅射技术沉积３０～６０ｎｍ厚的锗膜，对锗膜的应力进行了初步的测试与分析，制得的薄膜经干涉仪测量符合要求。
X光激光薄膜锗靶的制备
【摘 要】
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介绍Ｘ光激光薄膜锗靶的制备工艺，在厚度为９０ｎｍ和ｆｏｒｍｖａｒ膜上，采用磁控溅射技术沉积３０～６０ｎｍ厚的锗膜，对锗膜的应力进行了初步的测试与分析，制得的薄膜经干涉仪测量符合要求。
【机 构】
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西南核物理与化学研究所
【出 处】
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强激光与粒子束
【发表日期】
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1996年1期
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