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将非平衡磁控溅射和电弧离子镀工艺相结合，并使用霍尔离子源辅助，制备了过渡层为Cr、掺杂Ti和N的DLC薄膜。对DLC薄膜的表面形貌、内部结构、力学性能以及电学性能进行了分析测试，结果表明：膜层中含有sp^2键和sp^3键结构，硬度达到HV（20g）2600以上，摩擦因数接近0．1，电阻高于2MΩ。