【摘 要】
:
本文报道了一种新型的双波长染料激光器,它无须增加任何腔内元件,两个波长的调谐是完全独立的,且频差范围不受一种染料增益谱宽的限制。
论文部分内容阅读
本文报道了一种新型的双波长染料激光器,它无须增加任何腔内元件,两个波长的调谐是完全独立的,且频差范围不受一种染料增益谱宽的限制。
其他文献
Low-dimensional nanomaterials, owing to their unique and versatile properties, are very attractive for enormous electronic and optoelectronic applications. PbS quantum dots (QDs), characterized by a large Bohr radius and size-tunable bandgap, are especial
Single-nanowire solar cells with a unique light-concentration property are expected to exceed the Shockley–Queisser limit. The architecture of single nanowire is an important factor to regulate its optical performance. We designed a trilobal silicon nanow
根据米氏散射理论,对卷云消光特性、有效激光雷达比与波长之间的关系进行了模拟研究,并基于三波长激光雷达系统于2011年1月至2012年10月在合肥西郊的观测资料,计算了卷云不同波长的有效激光雷达比。理论和实验结果均表明,对三波长激光雷达系统所用的355,532,1064 nm三个波长而言,卷云的消光系数与波长无关,有效激光雷达比随着波长的增大而增大。合肥地区的卷云有效激光雷达比主要分布在10~70 sr之间,它们对应三个波长上的均值分别为(21.0±9.3) sr,(29.4±11.7) sr,(38.1±
X射线光栅相衬成像对弱吸收物质成像能够获得较高的图像衬度, 然而使用高分辨探测器, 成像时间长。此外, 受光栅工艺限制, 成像能量通常在30 keV左右。文中基于投影成像原理, 大大放宽了对光栅工艺的要求, 提高了成像能量。同时, 利用医用CT球管以及医用探测器, 基于周步进扫描模式, 实现了快速相衬CT成像。在国家同步辐射实验室搭建的成像系统上, 完成了80 kV管电压(等效能量约48 keV)180 mA管电流, 物体80 s曝光的二维和三维成像实验。针对实验结果, 进一步探讨了提高密度分辨率的方法和
设计一种针对粗糙表面目标的基于稀疏限制的鬼成像(GISC)实验装置,研究并分析接收系统的数值孔径与粗糙目标尺寸对GISC成像性能的影响。结果表明,粗糙目标的GISC成像质量与接收系统的数值孔径和目标尺寸均呈正相关。本研究可以为GISC装置中接收系统的光路设计提供重要参考。
We present a 2 μm Tm:YAG disk laser multi-pass pumped by a 1 μm laser. The transitions in competition of up conversion (UC) and excited state absorption (ESA) are analyzed in detail based on a numerical model that considers stimulated emission, fluorescen
大气相干长度自动跟踪测量系统是目前较为先进的相干长度测量系统,它能对移动目标进行自动跟踪式测量。 本文运用故障树分析法(FTA)分析了该系统的可靠性,通过计算确定了影响系统可靠性的薄弱环节,并对系 统的优化提出建议,为系统可靠性的提高及故障诊断提供了重要参考。
An Nd:glass disc requires an edge cladding to absorb the amplified spontaneous emission. The absorption is determined by reflections (R) from disc edges. R is primarily induced by the refractive index (n) mismatch. Thus, the temperature at the cladding in
The backscattering characteristics of optical microfiber (OM) are experimentally studied by controlling heating temperature and cooling method during the OM fabrication process. OM samples with various reflectances from 0.1% to 1% are achieved. An OM with