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本文采用磁控溅射镀膜技术，制备NdFeB、TbFe单层及TbFe/NdFeB复合薄膜。通过设计正交试验，优化溅射工艺参数。采用振动样品磁强仪、X射线衍射仪对不同热处理温度处理的NdFeB薄膜的磁学性能、晶体结构进行了研究，并采用电容位移测量法对TbFe薄膜和TbFe/NdFeB复合薄膜的磁致伸缩系数进行测量。研究结果表明，NdFeB薄膜和TbFe薄膜为面内易磁化方向，在低于400℃温度下真空热处理，薄膜保持非晶态，显现较好的软磁性能。与TbFe薄膜复合，可以大大降低薄膜的矫顽力，其低场磁致伸缩性能优于Tb