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氮钝化SiC MOS界面特性的Gray-Brown法研究

来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户：shizijiazuren

【摘 要】

：

降低SiO2/SiC界面态密度,尤其是SiC导带附近的界面态密度,是SiC MOS器件研究中的关键技术问题。采用氮等离子体钝化处理SiO2/SiC界面,制作成MOS电容后通过I-V和低温C-V测试进

【作 者】

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刘沙沙 秦福文 朱巧智 刘冰冰 汤斌 王德君 

【机 构】

：

大连理工大学电子信息与电气工程学部电子科学与技术学院,大连理工大学三束材料改性教育部重点实验室

【出 处】

：

固体电子学研究与进展

【发表日期】

：

2013年3期

【关键词】

：

二氧化硅 碳化硅界面 金属氧化物半导体电容 氮钝化 界面态密度 Gray-Brown法 SiO2/SiC interface  MOS capacitor  n 

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降低SiO2/SiC界面态密度,尤其是SiC导带附近的界面态密度,是SiC MOS器件研究中的关键技术问题。采用氮等离子体钝化处理SiO2/SiC界面,制作成MOS电容后通过I-V和低温C-V测试进行氧化膜击穿特性及界面特性评价。氧化膜击穿电场为9.92MV/cm,SiO2与SiC之间的势垒高度为2.69eV。使用Gray-Brown法结合Hi-Lo法分析C-V曲线,获得了距导带底EC0.05～0.6eV范围内的界面态分布,其中距EC0.2eV处的界面态密度降低至1.33×1012cm-2eV-

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