论文部分内容阅读
SEZ（瑟思）集团宣布集团己开发出新型化学制程．将极大地改善前段制程（FEOL）中的光阻去除制程。SEZ的专有技术Enhanced Sulfuric Acid（ESA）去除制程能够利用一系列以硫酸为主的化学试剂．极大地缩减了目前在光阻去除机或者批式环境中实施的光阻去除制程的步骤：光阻重修、蚀刻植入后和光阻去除以及在等离子光阻去除制程之后的残留物去除等