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中频对靶磁控溅射制备含铬类金刚石薄膜
中频对靶磁控溅射制备含铬类金刚石薄膜
来源 :材料热处理学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sunjian
【摘 要】
:
利用新型中频对靶磁控溅射在硅和M2高速钢基体上沉积了一系列无氢含铬类金刚石膜.考察了类金刚石膜的表面形貌、显微结构、硬度、结合力和摩擦磨损性能.结果表明:合成的类金刚
【作 者】
:
于翔
王成彪
刘阳
于德洋
【机 构】
:
中国地质大学(北京)工程技术学院,北京实力源科技有限公司
【出 处】
:
材料热处理学报
【发表日期】
:
2006年2期
【关键词】
:
含铬类金刚石薄膜
中频对靶磁控溅射
多层梯度结构
Adhesion
Carbon
Chromium
Deposition
Films
Friction
Hard
【基金项目】
:
国家自然科学基金资助项目(50475057),清华大学摩擦学国家重点实验室开放基金资助项目
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利用新型中频对靶磁控溅射在硅和M2高速钢基体上沉积了一系列无氢含铬类金刚石膜.考察了类金刚石膜的表面形貌、显微结构、硬度、结合力和摩擦磨损性能.结果表明:合成的类金刚石薄膜具有优良的综合性能,硬度为30-46GPa、结合力Lc达50-65N、大气环境下摩擦系数约为0.1.
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