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使用无限微元法对霍尔槽阴极初级电流分布进行了理论探讨，推导出霍尔槽阴极初级电流分布公式为：Ｄｋ＝Ｉｍ（Ａ＋Ｂｌｇ（Ｌｓｉｎθ＋α）），公式所得结果能正确解释电镀生产中的一些因素对镀层质量的影响，并对非直流电镀具有一定的指导意义。
无限微元法求霍尔槽初级电流分布
【摘 要】
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使用无限微元法对霍尔槽阴极初级电流分布进行了理论探讨，推导出霍尔槽阴极初级电流分布公式为：Ｄｋ＝Ｉｍ（Ａ＋Ｂｌｇ（Ｌｓｉｎθ＋α）），公式所得结果能正确解释电镀生产中的一些因素对镀层质量的影响，并对非直流电
【机 构】
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中南工业大学
【出 处】
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电镀与环保
【发表日期】
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1999年4期
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