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掺InGaAs晶体中的EL2缺陷及其热处理
掺InGaAs晶体中的EL2缺陷及其热处理
来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jonnyyu
【摘 要】
:
比较了掺In和非掺杂LEC-GaAs晶体中的EL2缺陷,分析了掺In量的不同与热处理过程的不同对LEC-GaAs晶体中EL2缺陷的影响。
【作 者】
:
谢自力
【机 构】
:
南京电子器件研究所
【出 处】
:
半导体技术
【发表日期】
:
1999年3期
【关键词】
:
掺铟
EL2缺陷
热处理
砷化镓晶体
IC
IndopingLECGaAsEL2 defectThermal annealing
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比较了掺In和非掺杂LEC-GaAs晶体中的EL2缺陷,分析了掺In量的不同与热处理过程的不同对LEC-GaAs晶体中EL2缺陷的影响。
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