DMDAAC合成中杂质控制研究进展

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介绍了"一步法"和"两步法"制备DMDAAC单体过程中杂质的产生原因,对制备DMDAAC单体过程中杂质的控制与去除方法进行归纳总结,分析了各自优缺点。指出合成中杂质的形成机理及其分析方法的建立已经成为提高DMDAAC单体纯度的关键因素,并对工业化提高DMDAAC单体的纯度及今后的研究方向提出了建议。
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