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报道了利用光发射谱（OES）和朗谬尔探针对热阴极直流放电等离子体化学气相沉积金刚石薄膜的等离子体条件进行原位研究的部分结果，研究了几种过程参数变化中等离子体状态，并与金刚石膜的沉积相联系。当CH4浓度变化时，CH基团的发射强度和电子密度ne的变化表现出相似趋势，均出现一极大值。而在高CH4浓度，C2的发射出现。在气压变化过程中，CH的发射强度和ne均随气压的升高而下降，C2的发射强度变化不大。用OES和朗谬尔探针测量的电子温度Te所显示的结果是一致的。在这些过程中，电子碰撞应该是CH发射的主要机制，C2的