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本文以一取代苯为基本模型,假设取代基对苯环间位和对位上质子的诱导效应大致相等,且间位上的共轭效应受阻,则对位上质子的化学位移(δ_p)与间位上质子的化学位移(δ_m)之差与取代基的共轭效应成正比。因此,共轭效应强度R_H可由下式求得:R_H=1.6(δ_p-δ_m)利用此式,作者计算了一些常见的基团的共轭效应强度,其结果与文献报道值颇为一致,且表现出明显的变化规律。