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光刻工艺面临量测挑战

来源 :集成电路应用 | 被引量 : 0次 | 上传用户：mzhou2009

【摘 要】

：

基于国际半导体技术发展路线（ITRS）的预测，如果半导体工业不断提升其产品的复杂度和密集度，那么到2022年，量测技术将面临史无前例的困难和挑战。

【出 处】

：

集成电路应用

【发表日期】

：

2008年6期

【关键词】

：

量测技术 工艺面 光刻 半导体技术 半导体工业 密集度 复杂度 

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基于国际半导体技术发展路线（ITRS）的预测，如果半导体工业不断提升其产品的复杂度和密集度，那么到2022年，量测技术将面临史无前例的困难和挑战。

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