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随着物理气相沉积技术的进展，使薄膜阻容元件得到了进一步的发展，其中溅射工艺已占主导地位，本文简述了溅射的原理及工艺特点，并提供了以溅射工艺制作的薄膜电阻件发展动态及特性。
溅射在金属氧化膜电阻器制作中的应用
【摘 要】
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随着物理气相沉积技术的进展，使薄膜阻容元件得到了进一步的发展，其中溅射工艺已占主导地位，本文简述了溅射的原理及工艺特点，并提供了以溅射工艺制作的薄膜电阻件发展动态及特性
【出 处】
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黑龙江电子技术
【发表日期】
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1995年2期
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