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氧化钪/氧化硅反射薄膜的355 nm激光损伤特性

来源 :光学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：cl8848kill

【摘 要】

：

采用电子束蒸发法制备了Sc2O3单层薄膜和Sc2O3/SiO2多层反射膜.利用原子力显微镜、X射线衍射仪等方法对薄膜的表面和结构进行,研究.采用355 nm激光研究了Sc2O3/SiO2多层薄膜

【作 者】

：

马平 陈松林 潘峰 王震 罗晋 吴倩 邵建达 

【机 构】

：

中国科学院上海光学精密机械研究所,中国科学院研究生院

【出 处】

：

光学学报

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

薄膜光学 激光损伤 氧化钪 高反射薄膜 

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采用电子束蒸发法制备了Sc2O3单层薄膜和Sc2O3/SiO2多层反射膜.利用原子力显微镜、X射线衍射仪等方法对薄膜的表面和结构进行,研究.采用355 nm激光研究了Sc2O3/SiO2多层薄膜的损伤特性和预处理效应,并对Sc2O3的损伤原因进行了分析.实验发现,Sc2O3具有较宽的带隙,薄膜结构为立方相,影响Sc2O3/SiO2 多层反射膜抗损伤能力的主要因素足材料的纯度.

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