稀释磁性半导体Zn1-xFexSe薄膜的光学特性

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用真空蒸镀法制备了稀释磁性半导体Zn1-xFexSe多晶薄膜,用X射线衍射和电子扫描电镜测定了薄膜结构和成份.其光吸收数据表明:光学能隙Eg随着Fe2 成分x增加而线性减小,用线性回归法拟合得其关系.Eg=2.722-2.2x(eV).
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提出一种修正振幅调制的光电混合圆谐联合变换相关器作旋转不变的目标检测的实验系统。参考图像(即圆谐展开分量的实部和虚部)、圆盘状的局部偏置函数以及目标图像同时显示于输入面。此方法对联合功率谱作了修正,先将联合功率谱减去纯输入景物(含局部偏置函数)的功率谱和参考图像(含局部偏置函数)的功率谱,再加上局部偏置函数的功率谱,然后将所得修正的联合功率谱乘以振幅调制滤波函数。这种方法能产生比普通的圆谐联合变换
日立中心研究实验室利用溅射在氧化镁基片上2微米厚的YBa2Cu3O7层,制成超导薄膜光学开关,这种薄膜陶瓷是最近发现的高温超导化合物之一,在85 K和3000安/厘米2最大电流密度下电阻消失。该组 把0.5微米的沟槽刻入薄膜,两面附上电极。
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采用熔融淬火法制备了Er3 掺杂53ZrF4-20BaF2-4LaF3-3AlF3-20NaF-2.4PbF2(ZBLAN)氟化物透明玻璃。在10 K~540 K温度范围内,测量了对应于Er3 斯塔克分裂能级4S3/2(1)→4I15/2和4S3/2(2)→4I15/2(对应波长分别为542 nm和548 nm)的变温荧光光谱,结果显示环境温度升高时,样品在两个发射位置的发光强度均快速衰减,但是衰减速率有所差异,结合位形坐标模型讨论认为,两斯塔克能级的激活能分别为ΔE1=0.078 eV和ΔE2=0.04
期刊
研究了全固态脉冲运转腔外倍频244 nm深紫外激光器。采用V型谐振腔及主动调Q技术,对双二极管阵列抽运的914 nm和1047 nm基频光进行腔内和频产生488 nm高重复频率脉冲激光。在总抽运功率为44 W时,488 nm激光输出功率为527 mW。利用Ⅰ类相位匹配BBO晶体进行腔外倍频,实现了平均功率为28 mW的244 nm深紫外激光输出,重复频率为4 kHz,脉冲宽度为17.8 ns,倍频效率为5.3%。
劳伦斯利弗莫尔实验室通过以紧凑的贮能装置——称为补偿脉冲交流发电机——代替原计划供给Nova以能量的装满地下室里的电容器组,可以节约1000万美元,驱动聚变的激光装置预定于1983年开动。据聚变计划负责人J.霍尔兹里克特说,贮能电容每焦耳大约花费27分,与此相比,补偿脉冲交流发电机每焦耳只花费20分。预期Nova需要贮能150兆焦耳;利弗莫尔估计2.5兆焦耳的交流发电机可能只有约5英尺直径和10英尺长。
期刊
通过理论推导分析了激光熔覆过程中熔覆层裂纹形成的物理机制,研究了激光光斑直径对裂纹缺陷的影响。选择40Cr 为基底材料,Ni60 为熔覆粉末进行了激光熔覆实验,获取了不同光斑直径下的熔覆效果图,并对裂纹分布特性进行了分析。理论与实验结果表明,随着激光光斑直径的增大,熔覆层的裂纹率逐渐增加,裂纹的深度逐渐加深,裂纹的宽度也随之加大。
系统研究了退火温度对硅薄膜结构和光学性能的影响。通过电子束蒸发工艺制备硅薄膜,然后在氮气保护下对薄膜样品在200~500°C范围内进行退火处理。使用XRD、拉曼光谱、电子自旋共振和透射光谱测量等方法对薄膜样品进行了表征。结果显示,随着退火温度的升高,非晶硅薄膜结构有序度在短程和中程范围内得到改善,同时缺陷密度显著降低。当样品在400°C退火后,消光系数k由6.14×10-3下降到最小值1.02×10-3 (1000 nm),这是由于此时硅薄膜缺陷密
针对特定机型座舱热载荷实验,提出太阳辐射模拟器光学系统的设计方法,并在此基础上研制出一套太阳辐射模拟器。设计了单只太阳辐射灯,完成了空间灯阵设计。采用提出的预调节方法,获得了合理的单灯安装位置。根据设计方案完成了光学系统的加工和安装,并对其开展了性能测试。结果表明:辐照度分布计算误差为12.0%,证明提出的预调节方法可行;根据预调节方法得到的座舱透明件表面热效应,与设计热效应偏差为-3.1%,说明达到了目标辐照环境;光学系统辐照不稳定度为±0.52%,具有较好的稳定性。研究结果对太阳辐射模拟器的设计具有参
利用激光熔覆同轴送粉技术在TC4合金表面制备了不同CeO2含量的Ni60A复合涂层,以此提高TC4合金的耐腐蚀性。通过XRD、SEM、EDS等对CeO2/Ni60A复合涂层进行了表征与测试,结果表明:适量的稀土氧化物CeO2可以细化晶粒,改善涂层内部的组织分布,并且促进NiTi、Ti2Ni和TiC等增强相的生成;在电化学检测中,CeO2的质量分数为3%时CeO2/Ni60A涂