【摘 要】
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在含有5～20克/升铬酸及20～60克/升硼酸镀液中,沿着薄的铬层,沉积一层有色的非金属膜。当这层薄膜用稀酸除去后,下面的铬层显示微观不连续结构,可改善镀镍及镀铬底层的耐腐蚀性
【机 构】
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美国Harshow化学公司,扬州无线电仪器厂 高级研究人员 美籍中国学者
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在含有5～20克/升铬酸及20～60克/升硼酸镀液中,沿着薄的铬层,沉积一层有色的非金属膜。当这层薄膜用稀酸除去后,下面的铬层显示微观不连续结构,可改善镀镍及镀铬底层的耐腐蚀性能。本镀液允许电流间断,及使用滤波的直流电;但阴极电流效率只有1.5～2％。
A colored non-metallic film is deposited along the thin chromium layer in a boric acid bath containing 5-20 g / l chromic acid and 20-60 g / l boric acid. When the thin film is removed with dilute acid, the underlying chromium layer shows a microscopic discontinuous structure that improves the corrosion resistance of the nickel-plated and chromium-plated substrates. The bath allows current discontinuities, and the use of filtered DC; but the cathode current efficiency of only 1.5 ~ 2%.
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