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凸面闪耀光栅是研制高光谱分辨率超光谱成像系统的关键器件之一。由于要求的闪耀角度一般较小，制作工艺难度大，其衍射效率与理论值有较大差距，一直制约其应用。针对上述问题与难点进行了分析，通过光刻胶光栅掩模制作和Ar 离子束刻蚀等工艺制作了凸面闪耀光栅。针对离子束大掠入射刻蚀凸球面时槽形闪耀角不易一致的难题，利用转动扫描刻蚀实现了球面上的闪耀光栅刻蚀，最终制作出了约4.3°闪耀角的凸面闪耀光栅，在400~800 nm波段范围内，其 1级衍射光效率均值达40%以上。