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介绍了消除多晶Si太阳电池薄膜中缺陷的各种钝化方法，主要包括利用氢等离子体、SiNx：H薄膜、Se单原子层、二元（Al2O3）x（TiO2）1-x合金、SiO2／Si／SiO2量子阱以及湿法化学反应所实现的对缺陷进行有效钝化处理等方法；基于本研究领域的最新进展，对各种方法的优缺点进行了分析归纳。指出H钝化可获得较好的钝化效果，但在后续热处理过程中，Si—H键会由于温度过高而断裂，致使氢离子离开表面而使钝化效果变差；SiNx：H氮化物薄膜可以有效阻挡氢的外扩散，保持钝化效果的稳定性，还可以起到对光的减反射作