SiO2/PVDF阳离子膜的微观形态、力学和热稳定性能研究

来源 :长江大学学报自然科学版:理工(上旬) | 被引量 : 0次 | 上传用户:haohaia9
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以掺混法合成了SiO2/PVDF阳离子膜.采用强度测定仪、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、差示扫描量热法(DSC)研究了不同二氧化硅纳米颗粒添加量的SiO2/PVDF阳离子膜的微观形态、机械稳定性和热稳定性.结果表明:随着纳米SiO2颗粒质量分数的增加,SiO2/PVDF阳离子膜的拉伸强度和断裂伸张率先增后降,当SiO2颗粒质量分数为PVDF的1.5%时,拉伸强度(26.2343N)和断裂伸张率(9.76%)最大.SiO2/PVDF阳离子膜的热稳定性温度最高可达300℃,阳离子膜微观断
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