【摘 要】
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采用射频磁控溅射工艺, 制备了三周期铁电超晶格 [PZT/ LNO]3/ Si. 对周期结构样品的结晶取向、 表面形貌、 电滞回线、 反射光谱、 膜厚等特性的一系列测试分析显示, 制备的
【机 构】
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厦门理工学院光电与通信工程学院,福建省光电技术与器件重点实验室
【基金项目】
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厦门市对台科技合作与交流基地项目(3502Z20141042);厦门理工学院教育教学改革与建设项目(JGY201621);厦门理工学院对外科技合作专项(E201401600)
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采用射频磁控溅射工艺, 制备了三周期铁电超晶格 [PZT/ LNO]3/ Si. 对周期结构样品的结晶取向、 表面形貌、 电滞回线、 反射光谱、 膜厚等特性的一系列测试分析显示, 制备的样品表面较平整,颗粒尺寸均很小, 晶格匹配可以诱导择优取向, 铁电性能优于单层膜; 对光产生了干涉效应, 可作为信息存储与传播材料, 亦可应用于非制冷红外焦平面器件.
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