【摘 要】
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采用后热区熔工艺的NTD FZ(H)-Si单晶,其退火曲线与常规区熔(氢)工艺控制的NTD FZ(H)-Si单晶退火曲线一样,有氢施主,而采用后冷区熔工艺的NTD FZ(H)-Si单晶其退火曲线没有氢
【机 构】
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北京科技大学,北京科技大学,北京科技大学,中国原子能科学研究院,中国原子能科学研究院
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采用后热区熔工艺的NTD FZ(H)-Si单晶,其退火曲线与常规区熔(氢)工艺控制的NTD FZ(H)-Si单晶退火曲线一样,有氢施主,而采用后冷区熔工艺的NTD FZ(H)-Si单晶其退火曲线没有氢施主,但有辐照。辐照施主峰大小与快中子积分通量有关,通量愈大热快比愈小,辐照施主峰愈大。
The NTD FZ (H) -Si single crystal with the post-hot zone melting process has an annealing profile similar to the NTD FZ (H) -Si single crystal annealing curve controlled by the conventional zone melt (hydrogen) process with hydrogen donor, NTD FZ (H) -Si single crystal in the cold region melting process has no hydrogen donor annealing curve but is irradiated. The size of donor peak was related to fast neutron flux. The larger the flux, the faster the heat flux ratio was and the smaller the radiation donor peak was.
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