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基于有限状态机模型的光刻版图自动布局系统
基于有限状态机模型的光刻版图自动布局系统
来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:youyou306
【摘 要】
:
采用有限状态机模型设计了集成电路光刻版上各个图形布局的自动系统.将布局的各个阶段定义为不同的状态,布局规则定义为触发条件,组成一个有限状态机.基于此模型的计算机自动
【作 者】
:
粟鹏义
陈开盛
曹庄琪
【机 构】
:
上海交通大学,上海光刻电子科技有限公司
【出 处】
:
半导体技术
【发表日期】
:
2003年10期
【关键词】
:
有限状态机
光刻版
电子设计自动化
集成电路
自动布局系统
finite state machine(FSM)
Photomask
EDA
IC
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采用有限状态机模型设计了集成电路光刻版上各个图形布局的自动系统.将布局的各个阶段定义为不同的状态,布局规则定义为触发条件,组成一个有限状态机.基于此模型的计算机自动布局系统能自动完成图形在光刻版上的布局,充分利用硅圆片面积并给出布局报告.
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