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KLA—Tencor日前正式发布了业界第一套用于post—RET（分辨力增强技术）掩模版设计版面（reticle design layout）检测的完整芯片光刻制程工艺窗口（lithograhy pmcess window）（允许误差空间）检测系统。DesignScan能使芯片生产商减少掩模版的设计修正次数，获得高成品率的设计，以实现更好的参数化设计性能和快速的上市时间。通过DesignScan可在将设计提交到掩模版生产之前识别并优化设计相关的影响性能和成品率的图形。