一种可以正负互用的水型化学增幅抗蚀剂的研究

来源 :高等学校化学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：c_zhang08

【摘要】

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研究了一种由甲酚醛树脂、六甲氧基甲基三聚氰胺（ＨＭＭＭ）、六氟磷酸根二苯碘Ｗｏｎｇ盐和光敏剂组成的水型紫外化学增幅抗蚀剂，发现二苯基碘Ｗｏｎｇ盐不公可以作为光敏产酸物，而且可以作为阻溶剂。用碘

【作者】

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陈明焦晓明

【机构】

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清华大学化学系,北京化学试剂所

【出处】

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高等学校化学学报

【发表日期】

：

2000年9期

【关键词】

：

阻溶剂光致抗蚀剂化学增幅抗蚀剂正负性反转 Chemical amplified Photosensitive acid generator Disso

【基金项目】

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国家自然科学基金! (批准号 :59633110 ,597730 0 7)资助

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研究了一种由甲酚醛树脂、六甲氧基甲基三聚氰胺（ＨＭＭＭ）、六氟磷酸根二苯碘Ｗｏｎｇ盐和光敏剂组成的水型紫外化学增幅抗蚀剂，发现二苯基碘Ｗｏｎｇ盐不公可以作为光敏产酸物，而且可以作为阻溶剂。用碘Ｗｏｎｇ盐作为光敏产酸物，光解产生的酸可以在中烘时催化甲酚醛树脂与ＨＭＭＭ的效联反应；用氢氧化钠－乙醇水溶液显影可以得到负性光刻图形；采用碘Ｗｏｎｇ盐作为阻溶剂，可阻止非曝光区的胶膜溶解在显影液中，用稀的氢氧

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