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本文介绍沟道-背散射分析的实验装置。用沟道-背散射方法进行了辐射损伤测定、表面组分分析、异质外延层的缺陷分析,得到了一些对半导体材料工艺、集成电路研制的有意义的结果。
沟道效应及某些应用的研究
【摘 要】
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本文介绍沟道-背散射分析的实验装置。用沟道-背散射方法进行了辐射损伤测定、表面组分分析、异质外延层的缺陷分析,得到了一些对半导体材料工艺、集成电路研制的有意义的结
【机 构】
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中国原子能科学研究院,中国原子能科学研究院,中国原子能科学研究院,中国原子能科学研究院,中国科学院半导体研究所,中国科学院半导体研究所,中国科学院半导体研究所,中国科学院高能物理研究所,中国科学院高能
【出 处】
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核技术
【发表日期】
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1987年06期
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