【摘 要】
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采用原位还原-金属辅助化学刻蚀法制备表面修饰 Ag 纳米颗粒的 Si 纳米线阵列,采用 SEM、EM、UV-Vis 和电化学工作站等手段进行表征,通过光电化学池研究光催化分解水/甲醇溶
【机 构】
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中国矿业大学北京化学与环境工程学院,辽宁石油化工大学化学化工与环境学部
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采用原位还原-金属辅助化学刻蚀法制备表面修饰 Ag 纳米颗粒的 Si 纳米线阵列,采用 SEM、EM、UV-Vis 和电化学工作站等手段进行表征,通过光电化学池研究光催化分解水/甲醇溶液（体积比1∶1）实验,分析修饰不同浓度的 Ag 纳米颗粒的等离子体效应对 Si 纳米线阵列光催化分解水效率的影响。结果表明,随着 Ag 纳米颗粒浓度的增加,Ag 纳米颗粒/Si 纳米线阵列复合结构的开路电压迅速减小,短路电流先增大后减小,而当 Ag 纳米颗粒以较小的浓度均匀分布于 Si 纳米线上时,可得到最高的效率。揭示了
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