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等平面和金属剥离工艺在低电容高可靠晶体管生产中的应用
等平面和金属剥离工艺在低电容高可靠晶体管生产中的应用
来源 :辽宁大学学报:自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:njnuqxj
【摘 要】
:
本文描述了一种等平面工艺和金属剥离技术在低电容、高可靠晶体管生产中的实际应用,通过采用这两种工艺,不仅使得晶体管输出电容减小14%,也使可靠性明显提高,从而满足了微波电路使用
【作 者】
:
邢素贤
王中文
【机 构】
:
沈阳飞达半导体器件厂
【出 处】
:
辽宁大学学报:自然科学版
【发表日期】
:
1997年2期
【关键词】
:
等平面工艺
金属剥离
晶体管
电容
制备
Equalplane tecnique
Metal-stripping
Transistor.
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本文描述了一种等平面工艺和金属剥离技术在低电容、高可靠晶体管生产中的实际应用,通过采用这两种工艺,不仅使得晶体管输出电容减小14%,也使可靠性明显提高,从而满足了微波电路使用的特殊要求。
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